晶体温控炉
Crystal temperature controlled furnace
定制开发与方案设计
       晶体温控炉主要用于大能量激光器LBO晶体的精密温度控制,晶体温控炉和温度仪配合使用,可实现最高±0.002℃的温度控制稳定性。晶体温控炉配合相应的机械结构,可实现晶体位置和角度的精细调节。晶体温控炉自带旋转调整角度功能,无需外部机械结构,可实现高度和角度的适应性调整,满足系统多工作场景应用。
       晶体温控炉型号分为结构散热型、风冷型、转台导冷型,以及用于恒温控制的恒温载物台等相关产品,产品形态如下图所示:







                                                                                   晶体温控炉系列产品                                                                                      恒温载物台

一、产品特点
      1) 转台导冷型的温控炉可支持晶体高度和角度的适应性二维调整;
      2)  晶体尺寸适应范围宽:可支持4mm*4mm-18mm*18mm;
      3) 预装温度传感器与TEC制冷片,可定制控温精度、散热功率。
二、技术指标

      表1: 指标参数表
产品类型
结构散热型
风冷型
转台式导冷型
外形尺寸mm
51*51*53
51*51*57
51*51,高度可调整
晶体尺寸mm
12*12*16、15*15*12、18*18*10,其他尺寸可定制
TEC规格
8A/10V,可根据晶体热功率扩展选配
控温精度
±0.002℃@25℃
NTC规格
10K 0.5%/B值:3950K
控温功率
≤0.5W
≤3.5W
≤1W
接口
DB9
DB9
DB9
风扇规格
/
12V/0.2A
/
适用范围
激光器内部
台面试验、外部环境
激光器内部












晶体温控炉

按照客户需求进行定制开发
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